制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精確路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精確控制。
對(duì)刻劃要有一系列的測(cè)試，對(duì)光柵的效率，刻線外形和雜散光要進(jìn)行檢查。每次測(cè)試后，可能需要一個(gè)小的機(jī)械調(diào)整。為了優(yōu)化刻線外形以達(dá)到特定的光學(xué)特性，可能需要一周或者更長時(shí)間進(jìn)行重復(fù)測(cè)試。經(jīng)過徹底測(cè)試后，才能在一塊大的基板上刻劃原始光柵。原始光柵非常昂貴，所以在復(fù)制光柵開發(fā)出來之前，光柵只能有限使用。
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