制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精確路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精確控制。
對刻劃要有一系列的測試，對光柵的效率，刻線外形和雜散光要進行檢查。每次測試后，可能需要一個小的機械調(diào)整。為了優(yōu)化刻線外形以達到特定的光學特性，可能需要一周或者更長時間進行重復測試。經(jīng)過徹底測試后，才能在一塊大的基板上刻劃原始光柵。原始光柵非常昂貴，所以在復制光柵開發(fā)出來之前，光柵只能有限使用。
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